پیام فرستادن
ZEIT Group 86-28-62156220-810 hua.du@zeit-group.com
350×300mm Quartz Photomask Substrate For Integrated Circuit Chip Manufacturing

زیرلایه فوتوماسک کوارتز 350×300 میلی متر برای تولید تراشه مدار مجتمع

  • برجسته

    زیرلایه فوتوماسک کوارتز ZEIT 350 × 300 میلی متر

    ,

    بستر فوتوماسک کوارتز ZEIT 350 × 300 میلی متر

    ,

    بستر فوتوماسک 350 × 300 میلی متر

  • مواد
    کوارتز
  • شرایط حمل و نقل
    FEDEX، DHL، EMS، TNT و غیره
  • محل منبع
    چنگدو، پرچین
  • نام تجاری
    ZEIT
  • گواهی
    Case by case
  • شماره مدل
    3035
  • مقدار حداقل تعداد سفارش
    1 عدد
  • قیمت
    Case by case
  • جزئیات بسته بندی
    جعبه ی چوبی
  • زمان تحویل
    مورد به مورد
  • شرایط پرداخت
    T/T
  • قابلیت ارائه
    مورد به مورد

زیرلایه فوتوماسک کوارتز 350×300 میلی متر برای تولید تراشه مدار مجتمع

کوارتز 350 × 300 میلی متر برای استفاده از FPD

 

 

برنامه های کاربردی

زمینه های فرآیند فوتولیتوگرافی، مانند ساخت تراشه مدار مجتمع، FPD (نمایش صفحه تخت)،

MEMS (سیستم های میکرو الکترومکانیکی) و غیره

 

اصل کار

ماسک یک ماسک اصلی گرافیکی است که معمولا در فتولیتوگرافی ساخت میکرو نانو استفاده می شود.ساختار گرافیکی

بر روی یک بستر شفاف توسط یک ماسک نوری مات تشکیل می شود و سپس اطلاعات گرافیکی به تصویر منتقل می شود.

بستر محصول از طریق فرآیند نوردهی

 

امکانات

برای استفاده از FPD

مدل / مواد اندازه ظرفیت پردازش
3035 / کوارتز 350mm × 300mm سنگ زنی، پولیش، آبکاری کروم، چسب

                                                                 

جریان فرآیند

→ تشخیص مواد خام؛

→ سنگ زنی خشن.

→ پرداخت خشن؛

→ تمیز کردن ماسک؛

→ بازرسی عملکرد مواد خام؛

→ روکش کروم؛

→ تست عملکرد ماسک؛

→ پوشش مقاوم به نور؛

→ بسته بندی؛

→ حمل و نقل

 

مزایای ما

ما تولید کننده هستیم

فرآیند بالغ.

ظرف 24 ساعت کاری پاسخ دهید.

 

گواهینامه ISO ما

زیرلایه فوتوماسک کوارتز 350×300 میلی متر برای تولید تراشه مدار مجتمع 0

 

 

بخش هایی از اختراعات ما

زیرلایه فوتوماسک کوارتز 350×300 میلی متر برای تولید تراشه مدار مجتمع 1زیرلایه فوتوماسک کوارتز 350×300 میلی متر برای تولید تراشه مدار مجتمع 2

 

 

بخش هایی از جوایز و صلاحیت های تحقیق و توسعه ما

زیرلایه فوتوماسک کوارتز 350×300 میلی متر برای تولید تراشه مدار مجتمع 3زیرلایه فوتوماسک کوارتز 350×300 میلی متر برای تولید تراشه مدار مجتمع 4