رسوب کندوپاش مگنترون در صنعت اپتیک
برنامه های کاربردی
| برنامه های کاربردی | هدف خاص | نوع مواد |
| اپتیک |
فیلم های نوری مانند فیلم ضد انعکاس، |
SiO2TiO2، تا2O5، ZrO2، HfO2 |
| شیشه کم آلایندگی |
چند لایه فلز (نقره، مس، قلع و غیره) |
|
| شیشه هادی شفاف | ZnO: Al و غیره |
اصل کار
ویژگی های کندوپاش مگنترون سرعت تشکیل فیلم بالا، دمای پایین بستر، چسبندگی خوب فیلم است.
و پوشش سطح وسیع قابل تحققاین فناوری را می توان به کندوپاش مگنترون DC و مگنترون RF تقسیم کرد
کندوپاش کردن
امکانات
| مدل | MSC-OX-X |
| نوع پوشش | فیلم های دی الکتریک مختلف مانند فیلم فلزی، اکسید فلزی و AIN |
| محدوده دمای پوشش | دمای معمولی تا 500 درجه سانتیگراد |
| اندازه محفظه خلاء پوشش | 700mm*750mm*700mm (قابل تنظیم) |
| خلاء پس زمینه | < 5×10-7mbar |
| ضخامت پوشش | ≥ 10 نانومتر |
| دقت کنترل ضخامت | ≤ ± 3٪ |
| حداکثر اندازه پوشش | ≥ 100mm (قابل تنظیم) |
| یکنواختی ضخامت فیلم | ≤ ± 0.5٪ |
| حامل بستر | با مکانیسم چرخش سیاره ای |
| مواد هدف | 4×4 اینچ (سازگار با 4 اینچ و پایین تر) |
| منبع تغذیه | منابع تغذیه مانند DC، پالس، RF، IF و بایاس اختیاری هستند |
| گاز فرآیندی | آر، ن2، O2 |
| توجه: تولید سفارشی در دسترس است. | |
نمونه پوشش
مراحل فرآیند
← بستر را برای پوشش در محفظه خلاء قرار دهید.
← محفظه خلاء را در دمای بالا و پایین جاروبرقی بکشید و بستر را به طور همزمان بچرخانید.
← پوشش شروع: بستر به ترتیب و بدون واکنش همزمان با پیش ساز تماس می گیرد.
→ پس از هر واکنش آن را با گاز نیتروژن با خلوص بالا پاک کنید.
← پس از اینکه ضخامت لایه به حد استاندارد رسید و عملیات تصفیه و خنک سازی انجام شد، چرخش بستر را متوقف کنید.
کامل شد، سپس پس از برآورده شدن شرایط شکست خلاء، بستر را خارج کنید.
مزایای ما
ما تولید کننده هستیم
فرآیند بالغ.
ظرف 24 ساعت کاری پاسخ دهید.
گواهینامه ISO ما
بخش هایی از اختراعات ما
بخش هایی از جوایز و صلاحیت های تحقیق و توسعه ما
