پیام فرستادن
ZEIT Group 86-28-62156220-810 hua.du@zeit-group.com
Superhard Film Magnetron Sputtering Deposition System In Functional Film Field

سیستم رسوب کندوپاش مگنترون فیلم فوق سخت در زمینه فیلم عملکردی

  • برجسته

    رسوب کندوپاش مگنترون میدان فیلم عملکردی

    ,

    سیستم کندوپاش مگنترون فیلم فوق سخت

    ,

    سیستم کندوپاش مگنترون فیلم عملکردی

  • وزن
    قابل تنظیم
  • اندازه
    قابل تنظیم
  • قابل تنظیم
    در دسترس
  • دوره گارانتی
    1 سال یا مورد به مورد
  • شرایط حمل و نقل
    حمل و نقل دریایی / هوایی / چند وجهی
  • محل منبع
    چنگدو، پرچین
  • نام تجاری
    ZEIT
  • گواهی
    Case by case
  • شماره مدل
    MSC-FF-X-X
  • مقدار حداقل تعداد سفارش
    1 مجموعه
  • قیمت
    Case by case
  • جزئیات بسته بندی
    جعبه ی چوبی
  • زمان تحویل
    مورد به مورد
  • شرایط پرداخت
    T/T
  • قابلیت ارائه
    مورد به مورد

سیستم رسوب کندوپاش مگنترون فیلم فوق سخت در زمینه فیلم عملکردی

رسوب کندوپاش مگنترون در زمینه فیلم عملکردی

 

 

برنامه های کاربردی

    برنامه های کاربردی     هدف خاص     نوع مواد
    فیلم کاربردی     فیلم فوق سخت     TiN، TiC

    فیلم ضد نور

    Cr، AlSi، AlTi، و غیره
    فیلم مقاومتی       NiCrSi، CrSi، MoTa و غیره
   فیلم ابررسانا       YbaCuO، BiSrCaCuo
      فیلم مغناطیسی     Fe، Co، Ni، FeMn، FeNi و غیره

 

اصل کار

انواع مختلفی از کندوپاش مگنترون با اصول کار و اشیاء کاربردی متفاوت وجود دارد.اما آنجا

یک چیز مشترک است: الکترونها را در مسیرهای مارپیچی نزدیک سطح هدف با برهمکنش بین آنها حرکت می دهد

میدان های مغناطیسی و الکتریکی، بنابراین احتمال تولید یون های تولید شده از برخورد الکترون ها با آرگون را افزایش می دهد.

سپس یون های تولید شده تحت تاثیر میدان الکتریکی به سطح هدف برخورد کرده و مواد مورد نظر را پراکنده می کنند.

 

امکانات

  مدل   MSC-FF-X-X
  نوع پوشش   فیلم های دی الکتریک مختلف مانند فیلم فلزی، اکسید فلزی و AIN
  محدوده دمای پوشش   دمای معمولی تا 500 درجه سانتیگراد
  اندازه محفظه خلاء پوشش   700mm*750mm*700mm (قابل تنظیم)
  خلاء پس زمینه   < 5×10-7mbar
 ضخامت پوشش   ≥ 10 نانومتر
 دقت کنترل ضخامت   ≤ ± 3٪
  حداکثر اندازه پوشش  ≥ 100mm (قابل تنظیم)
  یکنواختی ضخامت فیلم  ≤ ± 0.5٪
  حامل بستر   با مکانیسم چرخش سیاره ای
  مواد هدف  4×4 اینچ (سازگار با 4 اینچ و پایین تر)
  منبع تغذیه   منابع تغذیه مانند DC، پالس، RF، IF و بایاس اختیاری هستند
 گاز فرآیندی   آر، ن2، O2
  توجه: تولید سفارشی در دسترس است.

                                                                                                                

نمونه پوشش

سیستم رسوب کندوپاش مگنترون فیلم فوق سخت در زمینه فیلم عملکردی 0

 

مراحل فرآیند

← بستر را برای پوشش در محفظه خلاء قرار دهید.

→ تقریباً جاروبرقی کنید.

← پمپ مولکولی را روشن کنید، وکیوم کنیدبا حداکثر سرعت، سپس چرخش و چرخش را روشن کنید.

← حرارت دادن محفظه خلاء تا زمانی که دما به دمای آن برسدهدف؛

→ اجرای کنترل دمای ثابت.

→ عناصر تمیز؛

← چرخش و بازگشت به مبدا.

→ فیلم پوشش با توجه به الزامات فرآیند؛

→ دمای پایین تر و توقف مجموعه پمپ پس از پوشش؛

← وقتی کار را متوقف کنیدعملیات خودکار به پایان رسیده است.

 

مزایای ما

ما تولید کننده هستیم

فرآیند بالغ.

ظرف 24 ساعت کاری پاسخ دهید.

 

گواهینامه ISO ما

سیستم رسوب کندوپاش مگنترون فیلم فوق سخت در زمینه فیلم عملکردی 1

 

 

بخش هایی از اختراعات ما

سیستم رسوب کندوپاش مگنترون فیلم فوق سخت در زمینه فیلم عملکردی 2سیستم رسوب کندوپاش مگنترون فیلم فوق سخت در زمینه فیلم عملکردی 3

 

 

بخش هایی از جوایز و صلاحیت های تحقیق و توسعه ما

سیستم رسوب کندوپاش مگنترون فیلم فوق سخت در زمینه فیلم عملکردی 4سیستم رسوب کندوپاش مگنترون فیلم فوق سخت در زمینه فیلم عملکردی 5